Продолжение. Начало в статьях: ОБРАБОТКА КОРОННЫМ РАЗРЯДОМ (ЧАСТЬ I): обзор технологии ОБРАБОТКА КОРОННЫМ РАЗРЯДОМ (ЧАСТЬ II): управление процессом В результате, материалы, подвергшиеся обработке, будут обладать улучшенным нанесением печати и более высоким качеством покрытия и большей прочностью ламинирования. Система состоит из двух основных компонентов: 1. подача питания, и 2. станция обработки. Источник питания получает стандартное питание от коммунальной электрической сети на 50/60 Гц и преобразует ток в однофазовый с более высокой частотой (номинально от 10 до 30 кГц), который и подается на станцию обработки. Станция обработки прикладывает полученную энергию к поверхности материала через искровой промежуток с помощью пары электродов, одного с высоким потенциалом и другого, обычно в виде ролика, поддерживающего материал, с нулевым потенциалом. Повышение поверхностного натяжения должно наблюдаться только на той стороне материала, которая обращена к электроду с высоким потенциалом. В простейшем виде система обработки коронным разрядом может быть представлена как конденсатор (см. рисунок 9). Рисунок 9. Конденсатор
Напряжение прилагается к верхней пластине, которая, в случае с системой обработки коронным разрядом, будет служить электродом. Диэлектрическая часть конденсатора будет состоять из того же типа покрытия ролика, воздуха и подложки в системе обработки коронным разрядом. Последний компонент, или нижняя пластина, будет иметь вид электрически заземленного ролика. В системе обработки коронным разрядом повышение напряжения ионизирует воздух в искровом промежутке, создавая коронный разряд, который повышает поверхностное натяжение подложки, пропускаемой через электрически заземленный ролик.
|