В США разработана уникальная технология, которая позволяет применять тонкие пленки из ВСР на практике – то есть появляется возможность создавать на наноуровне шаблоны для будущих поколений микрочипов и устройств хранения данных.

Все, чего хотели исследователи из Национального института стандартов и технологий США (NIST) – найти простой и быстрый метод производства тонких пленок из блок-сополимеров или BCP (химически обособленные полимеры, соединенные друг с другом), чтобы получить в свое распоряжение отдельные образцы для проведения измерений, имеющих большое значение для микроэлектронной промышленности.
В качестве «награды» за свои усилия они получили неожиданный приз: уникальный процесс отжига, который может перевести в практическую плоскость использование тонких пленок из ВСР, с помощью которых появляется возможность создавать на наноуровне шаблоны для будущих поколений микрочипов и устройств хранения данных.
Производители полупроводников возлагали большие надежды на тонкие пленки из BCP как на шаблоны для внедрения в микрочипы микроскопических элементов топологии, например матрицы из плотно уложенных линий на наноуровне. Отжиг определенных пленок из ВСР – процесс регулируемого нагрева – приводит к тому, что один или два полимерных компонента выделяются и образуют регулярные шаблоны наноцилиндрических линий, разделенных расстоянием не более пяти нанометров, или аналогичные регулярные матрицы наноточек. Если химическим образом удалить другой полимер, то шаблон становится трафаретом для создания структур на микрочипе.